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Projektnummer | P211010 |
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Projekttitel laut Förderbescheid | E-Learning-Pattern in der Praxis (EPiP) |
Akronym | EPiP |
Projektlaufzeit | 01.09.2017 - 31.12.2018 |
Forschungsschwerpunkt | Sonstiges |
Projektkategorie | Bildung |
Grundeinheit | Zentrum für E-Learning |
Projektwebseite | https://www.hszg.de/zfe/projekte/aktuelle-projekte/epip.html |
Entwurfsmuster, die auf Design Pattern basieren, ermöglichen es dem Anwender anhand vordefinierter Muster für Lehr- und Lernszenarien typische und v.a. geeignete Methoden und Werkzeuge auszuwählen. Ursprünglich im Bereich Architektur und Softwareentwicklung eingesetzt, finden Design Patern als „didaktische Entwurfsmuster“ verstärkt auch im Bildungsbereich Anwendung. Im SMWK-Projekt DePOL (2015/16) wurden die notwendigen Voraussetzungen für den Einsatz von Design Pattern in OPAL geschaffen, indem die häufigsten Lehrszenarien als Entwurfsmuster formuliert und in das Lernmanagement überführt wurden. Im Projekt EPiP soll dieser Ansatz weiter ausgebaut und gezielt in vorhandene Nutzerworkflows im Lernmanagementsystem OPAL implementiert werden.
Ziel des Projektes EPiP ist die Identifikation von Barrieren im Workflow, die aus Sicht der Lehrenden einer breiten Nutzung entgegenstehen. Dazu soll zu Beginn in einer Evaluation die IST-Situation der vorhandenen Instrumente erfolgen (Pattern im Kurs DePOL), um zu prüfen ob die vorhandenen Instrumente ausreichen. Dabei gilt es die vorhandenen Informationen auf ihre Praxistauglichkeit zu validieren. Mithilfe der Rückmeldung von v.a. Lehrenden sollen die potentiellen Probleme identifiziert und im Anschluss in einen Anforderungskatalog überführt werden (Ergebnisse: fehlende oder unzureichend aufbereitete Informationen, typische Workflows und Arbeitsabläufe, bei denen Unterstützungsbedarfe existieren). Über eine konkrete Bedarfserhebung (empirisch mittels Interview, Befragung) – basierend auf der zuvor durchgeführten Evaluation – werden die Bedarfe aus Sicht der Lehrenden eruiert und in einem Pflichtenheft dokumentiert. Im Ergebnis entsteht ein Konzept, das sowohl die didaktischen als auch technischen Spezifikationen enthält. Übergeordnetes Ziel ist es, einen niedrigschwelligen Einstieg in das Pattern-Konzept zu ermöglichen.
Zurück zur Übersicht26.12.2024 19:16:40